Lettre du LAAS

Publication trimestrielle du Laboratoire
d'analyse et d'architecture des systèmes du CNRS

Brèves

Microtechnologies pour la métrologie : Une nouvelle référence de tension pour l'instrumentation de précision et les systèmes embarqués

juin 2011

Une référence de haute stabilité pour les mesures électriques de tension fonctionnant en courant alternatif utilisant un MEMS, système électromécanique utilisé en nanotechnologie, vient d’être démontrée par le LAAS et le LEN, Laboratoire national de métrologie et d’essais. La stabilité de la tension des MEMS a été mesurée sur plus de 150 heures avec une fluctuation inférieure au millionième à 100 kHz. En outre, leur dépendance en température est dix fois inférieure à celle rapportée antérieurement et permet de s’affranchir de plateforme de stabilisation thermique sophistiquée. Ces résultats uniques pourraient donner lieu à de nombreuses applications en métrologie électrique ou pour l’instrumentation de haute précision. La taille microscopique du système permet son application à tous les systèmes embarqués ou mobiles. Son intérêt est également de pouvoir être fabriqué à l’échelle industrielle rapidement et à très faible coût. Un tel dispositif est une première pour le courant alternatif, pourtant très commun dans notre vie quotidienne.

Publications primées

juin 2011

Prix du meilleur article à BioRob 2010
L'article "On using human movement invariants to generate target-driven anthropomorphic locomotion", signé de Manish N. Sreenivasa, Philippe Souères et Jean-Paul Laumond du LAASCNRS, a reçu le prix du meilleur article de la 3e conférence internationale sur la robotique biomédicale et la biomécatronique* sous l'égide des sociétés RAS** et EMBS*** de l'IEEE qui s'est déroulée du 26 au 29 septembre à Tokyo.
* International Conference on Biomedical Robotics and Biomechatronics
* Robotics Automation Society
** Engineering in Medicine and Biology Society.

Prix du meilleur article à la conférence Ro-Man 2010
L'article "Which one? Grounding the Referent Based on Efficient Human-Robot Interaction" signé par Ros Espinoza Raquel, Lemaignan Séverin, Sisbot Emrah Akin, Alami, Rachid (LAAS-CNRS), Steinwender Jasmin*, Hamann Katharina* et Warneken Felix** a obtenu le prix du meilleur article
lors du 19e symposium international IEEE en communication interactive robot-humain (Ro-Man 2010) qui s’est tenu à Viareggio (Italie) en septembre.
* Max Planck Institute for Evolutionary Anthropology, Allemagne.
** Harvard University, États-Unis.

Prix Mechatronic Awards, catégorie projet de recherche
L’équipe associée INP–LAAS Lose a été primée pour le développement d’un capteur laser optoélectronique embarqué par interférométrie. Organisés par Thesame, réseau européen industrie-formation-recherche en mécatronique, et Artema, le syndicat des industriels de la mécatronique, les prix 2010 des Mechatronics Awards ont été remis lors des 8e Rencontres européennes de la mécatronique (EMM2010). Le capteur laser permet d’effectuer, sans contact direct, des mesures de déplacements et de vibrations de cibles.

Plateforme de micro et nanotechnologies

juin 2011

Un nouveau système d'épitaxie par jets moléculaires est arrivé en salle blanche. Il s'agit d'une chambre d'épitaxie MBE412 III-V et d'un robot de type cluster desservant différents modules. Cette acquisition vient compléter la zone Epitaxie qui comprend déjà deux bâtis III-V connectés par ultra-vide. Le MBE412 offre une très grande flexibilité ainsi qu’un procédé unique de traitement de substrats de grandes tailles pour la réalisation contrôlée de nanostructures à base de semi-conducteurs III-V. Ce nouveau système contribuera à augmenter les capacités de recherche dans la filière opto-GaAs et à renforcer les travaux menés sur les composants photoniques et leur intégration dans un système. Il permettra la réalisation de dispositifs innovants pour la nanophotonique, des composants à puits et boîtes quantiques, des sources laser avancées telles que les lasers à émission surfacique (VCSELs) et les diodes laser à cristaux photoniques. En juillet 2010, c’est un nouvel équipement de lithographie par nanoimpression qui avait été acquis, afin de permettre un accès plus facile aux nanotechnologies et des réalisations plus rapides dans différents domaines d’applications : électronique, photonique, biologie.