Zone Nano Impression

Personnel

Emmanuelle DARAN (IR-Responsable de la zone)
Jean-Baptiste DOUCET (IE)
Franck CARCENAC (IR)
Amandine LESTRAS (AI)

 

Le principe de cette technique de lithographie de nouvelle génération est simple : il consiste à reproduire des motifs nanométriques par moulage. 

En juillet 2010, le LAAS s’est équipé d’une machine Nanonex NX-2500 dédiée spécifiquement à la lithographie par nano-impression . Cet équipement permet la réalisation de procédés thermiques et/ou UV.
 

Moyens de fabrication

Nanonex NX-2500 

  • Types de process 

-résines thermoplastiques et thermoréticulables 
-résines photosensibles (UV) 

  • Brevet : Air Cushion Press 

-optimisation de l’uniformité de l’impression 
-tout type d’échantillons : de qqs mm2 à 6 pouces 
-tout type de matériaux : Si, GaAs, verre, polymères, quartz,… 

  • Alignement : 1µm 


 

Savoir Faire

 

  • Fabrication des moules NIL : 

• Lithographie électronique sur wafer 4" en verre et en Si 
• Gravure ICP-RIE sur verre (100nm) et Si 
• Résolution : 40nm au pas de 100nm 
• Traitement de surface anti-adhésif (OTS) par voie liquide 

 

  • Nanoimprint UV : 

• Préparation de surface des substrats 
• Résines Nanonex (résines AMONIL, MRT, et Nanonex) 
• Résolution : 40nm

Impression sur GaAs (NX-2500)    

Moule en silice fondue