Zone Nano Impression
Personnel
Emmanuelle DARAN (IR-Responsable de la zone)
Jean-Baptiste DOUCET (IE)
Franck CARCENAC (IR)
Le principe de cette technique de lithographie de nouvelle génération est simple : il consiste à reproduire des motifs nanométriques par moulage.
En juillet 2010, le LAAS s’est équipé d’une machine Nanonex NX-2500 dédiée spécifiquement à la lithographie par nano-impression . Cet équipement permet la réalisation de procédés thermiques et/ou UV.
Moyens de fabrication
Nanonex NX-2500
- Types de process
-résines thermoplastiques et thermoréticulables
-résines photosensibles (UV)
- Brevet : Air Cushion Press
-optimisation de l’uniformité de l’impression
-tout type d’échantillons : de qqs mm2 à 6 pouces
-tout type de matériaux : Si, GaAs, verre, polymères, quartz,…
- Alignement : 1µm
Savoir Faire
- Fabrication des moules NIL :
• Lithographie électronique sur wafer 4" en verre et en Si
• Gravure ICP-RIE sur verre (100nm) et Si
• Résolution : 40nm au pas de 100nm
• Traitement de surface anti-adhésif (OTS) par voie liquide
- Nanoimprint UV :
• Préparation de surface des substrats
• Résines Nanonex (résines AMONIL, MRT, et Nanonex)
• Résolution : 40nm
Impression sur GaAs (NX-2500) | ![]() |
Moule en silice fondue | ![]() |