5e édition du colloque RAFALD - Toulouse

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Mardi, 5 Novembre, 2019 - Jeudi, 7 Novembre, 2019

Ce workshop dédié à la technologie ALD (Dépôt de Couches Atomiques - Atomic Layer Deposition) a pour but de fédérer une communauté française (industrielle et académique) pour initier la création d’un réseau national.

Pour cela nous organisons un colloque annuel réunissant tous les acteurs français actuels de l'ALD (universitaires et industriels) et également les techniciens, ingénieurs, doctorants, chercheurs et enseignants chercheurs potentiellement intéressés par l'ALD.

Ce colloque regroupe à la fois des sessions de formation et également des exposés scientifiques oraux et par affiches.

Public visé : Laboratoires académiques, industriels

Domaines visés : microélectronique, énergie, textile, biologie, nanotechnologies.

Niveau : Tous niveaux.

Soumission des abstracts : avant le 21 septembre 2019 sur le site RAFALD

Colloque limité à 100 places - inscription sur le site RAFALD