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Ingénierie de longueur d'onde de lasers DFB tout cristal photonique
A.LARRUE, O.GAUTHIER-LAFAYE, A.MONMAYRANT, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY
PH
Manifestation sans acte : Journées Nano Micro et Optoélectronique (JNMO'08), Ile d'Oléron (France), 3-6 Juin 2008, 1p. (Résumé) , N° 08811
Diffusion restreinte
117403Diodes laser GaSb à cavités couplées par cristaux photoniques
S.MOUMDJI, O.GAUTHIER-LAFAYE, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY, A.VICET, Y.ROUILLARD
PH, IES
Manifestation sans acte : Journées Nano Micro et Optoélectronique (JNMO'08), Ile l'Oléron (France), 3-6 Juin 2008, 1p. (Résumé) , N° 08810
Diffusion restreinte
117401Fabrication et caractérisation de cavités à cristaux photoniques fonctionnant dans le visible/proche visible
C.VION, A.MAITRE, O.GAUTHIER-LAFAYE, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY
INSP, PH
Manifestation sans acte : Journées Nano Micro et Optoélectronique (JNMO'08), Ile d'Oléron (France), 3-6 Juin 2008, 1p. (Résumé) , N° 08809
Diffusion restreinte
117399Dispositif de détection d'interférences monolithique intégré
P.ARGUEL, F.LOZES-DUPUY, G.SARRABAYROUSE, O.BOUCHARD
PH, M2D
Brevet : Numéro de publication internationale: WO2008074939 (A1), Juin 2008, 16p. , N° 06891
Diffusable
1163562D resonant grating optical filters for 850 nm wavelength, in normal and oblique incidence
S.HERNANDEZ, O.GAUTHIER-LAFAYE, A.L.FEHREMBACH, A.SENTENAC, S.BONNEFONT, P.ARGUEL, F.LOZES-DUPUY
PH, Fresnel
Manifestation avec acte : CLEO/IQEC 2008, San Jose (USA), 4-9 Mai 2008, 2p. , N° 08791
Diffusable
116938Photonic crystal single-mode DFB laser array with precise frequency spacing
A.LARRUE, O.BOUCHARD, L.JALABERT, A.ARNOULT, A.MONMAYRANT, O.GAUTHIER-LAFAYE, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY
PH, TEAM
Manifestation avec acte : CLEO/IQEC 2008, San Jose (USA), 4-9 Mai 2008, 2p. , N° 08792
Diffusion restreinte
116954Anomalous low-temperature photoluminescence behaviour of silicon nanocrystals
K.KOUKOS, G.SAUNIER, E.BEDEL-PEREIRA, O.GAUTHIER-LAFAYE, E.SCHEID, G.SARRABAYROUSE, F.LOZES-DUPUY
PH, M2D
Manifestation avec acte : E-MRS Spring Meeting 2008, Strasbourg (France), 26-30 Mai 2008, 1p. (Résumé) , N° 08575
Diffusable
115553High performance 2D resonant grating filter at 850 nm under high oblique incidence of ~60°
S.HERNANDEZ, O.GAUTHIER-LAFAYE, A.L.FEHREMBACH, S.BONNEFONT, P.ARGUEL, F.LOZES-DUPUY, A.SENTENAC
PH, Fresnel
Revue Scientifique : Applied Physics Letters, Vol.92, N°13, pp.131112-1-131112-3, Avril 2008 , N° 08795
Diffusion restreinte
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Abstract
We present an experimental demonstration of a polarization quasi-independent narrow-band (less than 0.8 nm) filter operating under high oblique incidence. The structure is a resonant grating with a hexagonal lattice which has been carefully designed to ensure polarization quasi-independence of the narrow-band resonance peak over a wide angular range around 60° of incidence. A good agreement between experimental results and theoretical calculations is shown.
Fabrication and optical characterisation of photonic crystal cavities in visible range
C.VION, J.M.FRIGERIO, A.MAITRE, O.GAUTHIER-LAFAYE, S.HERNANDEZ, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY
PH, INSP
Manifestation avec acte : SPIE Photonics Europe, Strasbourg (France), 7-11 Avril 2008, 1p. (Résumé) , N° 08793
Diffusion restreinte
116956Effect of annealing conditions on photoluminescence properties of low-pressure chemical vapour deposition-grown silicon nanocrystals
K.KOUKOS, E.BEDEL-PEREIRA, O.GAUTHIER-LAFAYE, E.SCHEID, L.BOUSCAYROL, B.FRANC, P.ARGUEL, S.BONNEFONT, F.LOZES-DUPUY, G.SARRABAYROUSE
M2D, PH, TEAM, 2I
Revue Scientifique : Japanese Journal of Applied Physics, Vol.47, N°1, pp.130-132, Janvier 2008 , N° 07654
Diffusable
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Abstract
The photoluminescence properties of silicon nanocrystals in SiO2, prepared by low-pressure chemical vapour deposition and subsequent annealing have been studied. A comprehensive range of combinations of film compositions and annealing conditions were tested. The use of two-step annealing (a rapid annealing, followed by a conventional one) used instead of the common one-step conventional annealing, enhances emission. Annealing conditions are key to the photoluminescence and structural properties of the obtained film and have been investigated in detail. Film composition is also an important parameter, which allows tuning of the emission in a wide spectral range in the near infrared.
Mots-Clés / Keywords
LPCVD; Silicon nanocrystals; Photoluminescence; SiOx; Rapid Thermal Annealing (RTA);