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Films isolants Si3N4 et SiO2 obtenus par technique LPCVD à basse température : propriétés et maîtrise technologique

E.SCHEID, D.BIELLE DASPET, K.KOUASSI, B.ROUSSET, P.FADEL, G.SARRABAYROUSE, J.SAMITIER

CCEC, TEAM, EXT

Manifestation sans acte : Journées GCIS, Toulouse (France), 5-7 Juin 1991, 4p. , N° 91245

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Isolants et interfaces polysilicium/isolant adaptés à une technologie < 600°C

E.SCHEID, P.TAURINES, K.KOUASSI, J.PEDROVIEJO, B.ROUSSET, P.FADEL, D.BIELLE DASPET, F.CHAUVET, G.SARRABAYROUSE, A.MARTINEZ

CCEC, TEAM

Rapport de Contrat : Convention CNET-LAAS, N°88.8B.00.790.92.45 LAB/OCM/TIC, Janvier 1991, 15p. , N° 91053

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Mise en ¿uvre d'une ligne de gravure ionique adaptée à une activité d'accueil pour entreprises et centres de recherche

N.FABRE, H.H.PHAM, F.ROSSEL, C.SOLANO, B.ROUSSET, J.CHEVALIER, G.LACOSTE

TEAM

Rapport de Contrat : Contrat Région N°RECH/9000836, Janvier 1991, 13p. , N° 91032

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Diodes à émission surfacique

F.LOZES-DUPUY, S.BONNEFONT, H.MARTINOT, V.V.PHAM, J.CHEVALIER, B.ROUSSET, N.FABRE

III.V, SIP, TEAM

Rapport de Contrat : Contrat MRT/LAAS, Novembre 1990, 4p. , N° 90391

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Développement et caractérisation d'un système LPCVD pour le dépôt de Si poly et de Si3N4 à partir de SiH4 et de Si2H6

P.FADEL, B.ROUSSET, P.TAURINES

TEAM, CCEC

Rapport LAAS N°90386, Novembre 1990, 49p.

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Elaboration de fims Si-LPCVD en réacteurs horizontaux à murs chauds

P.TAURINES, E.SCHEID, B.ROUSSET, P.FADEL, D.BIELLE DASPET, C.AZZARO, M.GUEYE, M.TOUNSI, P.DUVERNEUIL, J.P.COUDERC

CCEC, TEAM, EXT

Manifestation sans acte : Journées SFP de la Matière Condensée, Montpellier (France), 3-6 Septembre 1990 (Résumé) , N° 90288

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Films isolants Si3N4 et SiO2 obtenus par technique LPCVD à basse température : propriétés et maitrise technologique

D.BIELLE DASPET, E.SCHEID, K.KOUASSI, B.ROUSSET, P.FADEL

CCEC, TEAM

Manifestation sans acte : Journées G.CIS, Toulouse (France), 7-8 Juin 1990, 4p. , N° 90184

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Evaluation des films semiconducteurs et isolants déposés à partir de disilane

D.BIELLE DASPET, E.SCHEID, P.TAURINES, K.KOUASSI, N.FABRE, P.FADEL, B.ROUSSET, J.P.COUDERC, P.DUVERNEUIL, M.GUEYE, B.DE MAUDUIT, R.FEURER, B.PIERAGGI, J.SIMON

CCEC, TEAM, EXT

Rapport de Contrat : Subvention Région N°8900739, Juin 1990, 8p. , N° 90190

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Application de l'ellipsométrie UV, corrélées à l'observation MEB, à l'étude de films Si-LPCVD

E.SCHEID, B.ROUSSET, P.FADEL, D.BIELLE DASPET

CCEC, TEAM

Rapport LAAS N°90166, Mai 1990, 7p.

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Qualité des polyoxydes (Si-LPCVD, SiH4 520°C) et des nitrures LPCVD (SiH2Cl2-NH3) réalisés à 600°C

E.SCHEID, P.TAURINES, B.ROUSSET, P.FADEL, D.BIELLE DASPET, F.CHAUVET, G.SARRABAYROUSE, A.MARTINEZ

CCEC, TEAM

Rapport de Contrat : Contrat CNET/LAAS N° 88.8B.00.790.92.45 LAB/OCM/TIC, Mai 1990, 7p. , N° 90167

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