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Etude de l'intégration de la fonction thyristor dual

J.L.SANCHEZ, R.BERRIANE, M.BREIL, F.ROSSEL, B.ROUSSET, M.FOCH, J.JALADE

CIP, TEAM, LEEI

Rapport de Contrat : Convention de Recherche DRET N°94.169, Juillet 1996, 33p. , N° 96302

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Décontamination de surfaces de semiconducteur par plasma réactif

N.FABRE, M.DILHAN, H.H.PHAM, V.CONEDERA, M.BENOIT, B.ROUSSET, F.ROSSEL

TEAM

Rapport de Contrat : Convention Région N° RECH/93.000.91, Juin 1996, 46p. , N° 96207

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Fabrication of buried co-planar metal-insulator-metal nanojunctions with a gap lower than 10 nm

V.ROUSSET, C.JOACHIM, S.ITOUA, B.ROUSSET, N.FABRE

TEAM, EXT

Revue Scientifique : Journal de Physique III, Vol.5, N°12, pp.1983-1989, 1995 , N° 95527

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Micro actionneur tout silicium

H.CAMON, V.CONEDERA, B.ROUSSET, H.H.PHAM, N.FABRE, Y.LEFEVRE

M2I, TEAM, EXT

Rapport de Contrat : Contrat Région Midi-Pyrénées, N°RECH/9307926, Novembre 1995, 11p. , N° 95483

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Caractérisation électrique d'une structure MIS à base de Si3N4

A.VAL, M.COULIBALY, C.CAGNAC, F.OLIVIE, B.ROUSSET

M2I, EXT, TEAM

Rapport LAAS N°95397, Octobre 1995, 36p.

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First steps towards the fabrication of electrostatic micromotors using SOG

V.CONEDERA, N.FABRE, H.CAMON, B.ROUSSET, H.H.PHAM, C.SOLANO

TEAM, M2I

Revue Scientifique : Sensors and Actuators A, Vol.A46, pp.82-84, 1995 , N° 94466

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First steps towards the fabrication of electrostatic micromotors using SOG

V.CONEDERA, N.FABRE, H.CAMON, B.ROUSSET, H.H.PHAM, C.SOLANO

TEAM, M2I

Manifestation avec acte : Eurosensors VIII, Toulouse (France), 26-28 Septembre 1994, 13p. , N° 94466

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Décontamination de surfaces de semiconducteurs par plasma réactif

N.FABRE, H.H.PHAM, B.ROUSSET

TEAM

Rapport de Contrat : Convention Région RECH/9300091, Septembre 1994, 17p. , N° 94370

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Fabrication of 30 NM inter-electrode gap co-planar tunnel junctions with buried electrodes

S.ITOUA, C.JOACHIM, B.ROUSSET, N.FABRE

EXT, TEAM

Revue Scientifique : Journal de Physique III, Vol.4, N°5, pp.929-935, Mai 1994 , N° 94115

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Fabrication and AFM characterization of a co-planar tunnel junction with a less than 30 NM interelectrode gap

S.ITOUA, C.JOACHIM, B.ROUSSET, N.FABRE

EXT, TEAM

Revue Scientifique : Nanotechnology, Vol.5, N°1, pp.19-25, Janvier 1994 , N° 94116

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