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Intégration fonctionnelle et opérationnelle

J.L.SANCHEZ, E.IMBERNON, P.AUSTIN, M.BREIL, P.DUBREUIL, F.ROSSEL, B.ROUSSET, E.SCHEID

CIP, TEAM, TMN

Rapport de Contrat : Contrat GIRCEP GDR N°004, Octobre 2002, 57p. , N° 02442

Diffusion restreinte

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Vers une analyse du champ interne dans les structures MOS pour la microélectronique. Corrélation entre la mesure directe de charge d'espace par la méthode de l'onde thermique et la mesure capacité-tension

P.NOTINGHER, S.AGNEL, A.TOUREILLE, B.ROUSSET, J.L.SANCHEZ

Montpellier, TEAM, CIP

Manifestations avec acte à diffusion limitée : 3ème Conférence de la Société Française de l'Electrostatique (SFE'2002), Toulouse (France), 3-4 Juillet 2002, 9p. , N° 02629

Diffusable

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Properties of nitrogen doped silicon films deposited by LPCVD from disilane and ammonia

P.TEMPLE BOYER, L.JALABERT, E.COUDERC, E.SCHEID, P.FADEL, B.ROUSSET

TMN, TEAM

Revue Scientifique : Thin Solid Films, Vol.414, N°1, pp.13-17, Juillet 2002 , N° 01308

Diffusable

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Flexible technological process for functional integration

E.IMBERNON, J.L.SANCHEZ, P.AUSTIN, M.BREIL, O.CAUSSE, B.ROUSSET, F.ROSSEL

CIP, TEAM

Manifestation avec acte : 2001 International Semiconductor Conference (CAS'2001), Sinaia (Roumanie), 9-13 Octobre 2001, Vol.II, pp.465-468 , N° 01402

Diffusable

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Development of SiNx LPCVD processes for microtechnological applications

B.ROUSSET, L.FURGAL, P.FADEL, A.FULOP, D.PUJOS, P.TEMPLE BOYER

TEAM, TMN

Manifestation avec acte : 13th European Conference on Chemical Vapor Deposition (EUROCVD'13), Athènes (Grèce), 26-31 Août 2001 , N° 01005

Diffusable

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Development of SiNx LPCVD processes for microtechnological applications

B.ROUSSET, L.FURGAL, P.FADEL, A.FULOP, D.PUJOS, P.TEMPLE BOYER

TEAM, TMN

Revue Scientifique : Journal de Physique IV, Vol.11, N°Pr3, pp.937-944, Août 2001 , N° 01005

Diffusable

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Environnement de conception et filière technologique flexible adaptés au mode d'intégration fonctionnelle

P.AUSTIN, J.L.SANCHEZ, M.BREIL, J.P.LAUR, J.JALADE, G.BONNET, E.IMBERNON, M.MARMOUGET, T.BORDIGNON, B.ROUSSET, F.ROSSEL

CIP, TEAM

Manifestations avec acte à diffusion limitée : 8ème Colloque Electronique de Puissance du Futur (EPF'2000), Lille (France), 29 Novembre - 1er Décembre 2000, pp.183-188 , N° 00264

Diffusable

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Intégration fonctionnelle

J.L.SANCHEZ, P.AUSTIN, M.BREIL, O.CAUSSE, E.IMBERNON, J.P.LAUR, J.JALADE, F.ROSSEL, B.ROUSSET, H.FOCH, H.SCHNEIDER, P.MERLE, C.GLAIZE, J.J.HUSELSTEIN

CIP, TEAM, LEEI, LEM

Rapport de Contrat : Contrat GDR/GIRCEP N°9908, Janvier 2000, 37p. , N° 00023

Non diffusable

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A new high-voltage integrated switch: the "thyristor dual" function

J.L.SANCHEZ, M.BREIL, P.AUSTIN, J.P.LAUR, J.JALADE, B.ROUSSET, M.FOCH

CIP, TEAM, LEEI

Manifestation avec acte : 11th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD'99), Toronto (Canada), 25-28 Mai 1999, pp.157-160 , N° 99137

Diffusable

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Fabrication of co-planar metal-insulator-metal solid state nanojunction down to 5 nm

S.CHOLET, C.JOACHIM, J.P.MARTINEZ, B.ROUSSET

CEMES/CNRS, TEAM

Rapport LAAS N°99147, Mars 1999, 29p.

Diffusable

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