Un nouveau système d'épitaxie par jets moléculaires est arrivé en salle blanche. Il s'agit d'une chambre d'épitaxie MBE412 III-V et d'un robot de type cluster desservant différents modules. Cette acquisition vient compléter la zone Epitaxie qui comprend déjà deux bâtis III-V connectés par ultra-vide. Le MBE412 offre une très grande flexibilité ainsi qu’un procédé unique de traitement de substrats de grandes tailles pour la réalisation contrôlée de nanostructures à base de semi-conducteurs III-V. Ce nouveau système contribuera à augmenter les capacités de recherche dans la filière opto-GaAs et à renforcer les travaux menés sur les composants photoniques et leur intégration dans un système. Il permettra la réalisation de dispositifs innovants pour la nanophotonique, des composants à puits et boîtes quantiques, des sources laser avancées telles que les lasers à émission surfacique (VCSELs) et les diodes laser à cristaux photoniques. En juillet 2010, c’est un nouvel équipement de lithographie par nanoimpression qui avait été acquis, afin de permettre un accès plus facile aux nanotechnologies et des réalisations plus rapides dans différents domaines d’applications : électronique, photonique, biologie.