NanoImprint

Principe de la nano-impression

Le principe de cette technique de lithographie de nouvelle génération est simple : il consiste à reproduire des motifs nanométriques par moulage. 


En juillet 2010, le LAAS s’est équipé d’une machine Nanonex NX-2500 dédiée spécifiquement à la lithographie par nano-impression . Cet équipement permet la réalisation de procédés thermiques et/ou UV.


Moyens de fabrication

Nanonex NX-2500

•Types de process
-résines thermoplastiques et thermoréticulables
-résines photosensibles (UV)

•Brevet : Air Cushion Press
-optimisation de l’uniformité de l’impression
-tout type d’échantillons : de qqs mm2 à 6 pouces
-tout type de matériaux : Si, GaAs, verre, polymères, quartz,…

•Alignement : 1µm

Savoir Faire


1-Fabrication des moules NIL :


    • Lithographie électronique sur wafer 4" en verre et en Si
    • Gravure ICP-RIE sur verre (100nm) et Si
    • Résolution : 40nm au pas de 100nm
    • Traitement de surface anti-adhésif (OTS) par voie liquide


2-Nanoimprint UV :

• Préparation de surface des substrats
• Résines Nanonex (résines AMONIL, MRT, et Nanonex)
• Résolution : 40nm

    Impression sur GaAs (NX-2500)                             

    Moule en silice fondue